光刻物镜

主要用于大面积、高分辨率的集成电路中芯片制造和塑性电路版的制作（Plastic Circuit Board）应用说明：

该投影光刻物镜主要用于大面积的光刻，而不需要分步重复。一次曝光光刻面积为8英寸，曝光分辨率为3μm或5μm，全视场的畸变小于3μm，曝光所用紫外谱线为h和i线。

物镜一                     

曝光面积：8英寸            

曝光分辨率：5μm          

曝光谱线：h和I        

数值孔径：0.08               

投影光刻物镜技术指标

成像视场（曝光面积）：8英寸

通光口径： D=280MM

全视场分辨率达到光学理论极限：≤2.5μm

数值孔径：NA=0.08

全视场范围内畸变小于：±2.0μm

曝光波长：λ=0.365μm

放大倍率：β=-1

系统的焦深范围：±25.0μm